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半導体製造

半導体やエレクトロニクス製品の製造工程では、乾燥状態の厳密な管理が必要です。

こうした製品の製造プロセスや作業における過剰な湿気や水分は、回路を腐食し、マイクロチップの回路面に結露が発生させます。また、フォトレジストの粘着性が適正でなくなるため、半導体組立工程において動作不良が生じます。
ムンタースのデシカント除湿機「ハニカム」は、ドライルームやクリーンルームに適した作業環境をつくり出します。

湿度コントロールによって防止できることは

  • 回路の腐食
  • マイクロチップの回路面に付着する結露
  • 装置の劣化
  • 不適正なフォトレジストの粘着性

そのため、以下の分野で湿度コントロールは必須です:

組立分野

半導体および集積回路の製造において、過度な湿気はボンディング工程に悪影響を与え、欠陥を増加させます。フォトレジストと呼ばれる感光性高分子化合物は、エッジング過程の回路線を隠すために使用されます。フォトレジストは吸湿性が高く、湿気をよく吸収します。そのため、微小な回路線が切断または適切に接続されず、回路の欠陥が生じます。

ウエハー製造分野

ウエハー製造過程においてスピンナーがウエハー表面にデベロッパーを噴霧すると、ウエハー上にある溶媒が急速に蒸発し、ウエハー表面が低温になります。そのため、空気中の水蒸気がウエハーの表面で凝縮します。ウエハー上の余分な水分は、デベロッパーの特性を変化させてしまいます。また、フォトレジストが水分を吸収すると、高分子化合物が膨張する原因になります。相対湿度を制御することにより周囲空気の露点をウエハーの表面温度よりも低くすることで、製品の欠陥や損傷を防止することができます。

フォトリソグラフィルーム

フォトリソグラフィ室内に過剰な湿気があると、シリカが水分を吸収してしまうため、フォトレジストの適性な粘着性が失われます。その結果、亀裂や表面欠陥が生じます。

より高速な真空ポンプダウン

湿度が非常に高い場合クライオポンプなどの真空装置は、水蒸気の処理負荷がかかりすぎるため、動作が減速します。相対湿度 を下げることによってバッチ処理速度が向上し、生産性を高めることができます。

EPI装置の保護

水蒸気または湿気がエピタキシャル装置の冷却された表面に凝縮すると、部品類が腐食してしまうため、動作不良や製造工程のスローダウンを引き起こします。 当社のデシカント式除湿機は周囲条件に左右されることなく相対湿度を1%、またはさらに低い一定水準に維持することが可能なため、半導体製造分野で要求される最も厳しい湿度条件の効率的維持を実現します。

最適な空気環境の提供に加え、当社は揮発性有機化合物(VOC)を含んだ排気空気を清浄するVOC除去製品を幅広く提供しています。半導体の製造過程では、VOCを含んだ空気が排出されます。VOCは健康や環境に有害な影響をおよぼすため、除去する必要があります。ゼオライトロータ式濃縮装置は最も優秀なVOC濃縮機能を持っているため、大幅なコスト削減が実現します。 

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最適な空気環境の提供に加え、ムンタースは揮発性有機化合物(VOC)を含んだ排気空気を清浄するVOC除去製品を幅広く提供しています。半導体の製造過程では、VOCを含んだ空気が排出されます。VOCは健康や環境に有害な影響をおよぼすため、除去する必要があります。ゼオライトロータ式濃縮装置は最も優秀なVOC濃縮機能を持っているため、大幅なコスト削減が実現します。

通年24時間体制の製造スケジュールで稼働している半導体業界が、ロータ式濃縮装置システムを使用する利点は、主として高い信頼性、圧力変動を最小限に抑えた一定の排気流で運転費用の削減が可能なことです。当社の濃縮装置は、低濃度のVOCを含む大量の排気を、小規模な装置に送ることができます。そして、濃縮したVOCを酸化剤で効果的に、また、コスト効率良く分解します。濃縮システムの圧力低下は低いため、換気扇の電力消費を抑えることが出来ます。

ムンタースのゼオライトロータ式濃縮システムは、揮発性有機化合物(VOC)削減分野の先端テクノロジーです。現在サービスを提供しているシステムは200台を超えており、当社のインストールベースには世界的評価の高い企業も含まれています。当社は、VOCを吸着する疎水性ゼオライト開発のパイオニア企業です。当社のVOC除去システムは、95%以上のVOC分解除去効率(DRE)を実現します。また、スタンドアロン型酸化剤と比べると燃料費を30~50%も削減することができます。

お問合せ: 電話 03-5970-0021 (東京)、06-6368-6680 (大阪)、お問合せフォームをご利用下さい。

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