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半導體加工

許多半導體及電子產品加工和操作過程都需要嚴格控制的干燥環境。

許多半導體及電子產品加工和操作過程都需要嚴格控制的干燥環境。空氣濕度過高會導致電路接點腐蝕、芯片電路表面凝結水分和光刻膠粘連不當,導致半導體封裝過程中出現操作故障。因此,我們可以使用轉輪除濕技術,以便維持干燥工作間和無塵室內的適當工作環境。

濕度控制可防止:

  • 電路接點腐蝕
  • 芯片電路表面凝結水分
  • 設備老化
  • 光刻膠粘連不當

封裝區

在半導體和集成電路的生產過程中,濕度過大會對焊接工藝造成不利影響,使不良品增多。刻蝕過程中,人們會使用一種叫做光刻膠的光敏高分子混合液覆蓋電路引線。具有吸濕性的光刻膠會吸收水分,致使微電路引線被錯誤切斷或連通,導致電路故障。

晶圓制造區

晶圓加工過程中,旋涂機會將顯影劑噴射在晶圓表面,使晶圓表面的溶劑迅速蒸發,以達到為晶圓表面降溫的效果。同時,這也會導致空氣中的水蒸汽在晶圓表面凝結成水滴。晶圓表面濕度過大會導致顯影劑的化學特性發生改變。光刻膠同樣也會吸收水分,導致高分子聚合物成分膨脹。通過控制相對濕度,便可保証晶圓表面溫度不會低於周圍空氣露點溫度,從而防止故障和損壞。

光刻間

光刻間過於潮濕會導致二氧化硅吸收水分、光刻膠粘連不當,造成晶圓在應力作用下產生斷裂和表面缺陷。

加快真空泵老化

如果濕度水平過高,低溫泵等真空設備會因空氣中存在大量水蒸汽而出現轉速降低的情況。相對濕度降低后,批處理速度就可以得到提升,從而促進生產效率的提升。

保護外延設備

水蒸汽或水分凝結在低溫的外延設備表面,會使設備部件受到腐蝕,導致運行故障並降低處理速度。

除了可以實現理想的空氣條件,蒙特還可提供用於消除廢氣中揮發性有機化合物 (VOC) 的 Zeol VOC 減排系列產品。半導體加工過程中排出的廢氣中含有 VOC。它對人體健康和環境有害,因此有關部門要求減少這種物質的排放量。沸石轉輪濃縮設備可首先將 VOC 進行高效濃縮,從而大大降低減排成本。

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對於每分每秒都在追求生產進度的半導體工業來說,轉輪濃縮系統的最大優勢在於其具有高度可靠性,可在壓力波動最低的情況下穩定排放廢氣,大大節省運營成本。蒙特系統可將包含低濃度 VOC 的大量廢氣壓縮成低濃度的液體,再利用氧化劑進行經濟高效的燃燒去除。系統壓降較小,有助於排氣扇節約能源成本。

蒙特沸石轉輪濃縮設備系統在 VOC 減排方面處於技術領先地位。目前安裝該系統的包括一些世界知名企業,現已有200多套系統在為我們的客戶提供服務。

蒙特是研究 VOC 疏水沸石吸收技術的先驅者。蒙特 VOC 減排系統可實現 95% 以上的 VOC 燃燒去除率 (DRE),而其燃料費用與僅使用氧化劑相比可降低 30-50%。

  • 我們可以幫助您

    電子產品保護

    許多半導體及電子產品操作過程都需要嚴格控制的干燥環境。空氣濕度過高會導致“電路接點”腐蝕、芯片電路表面凝結水分和光刻膠粘連不當,導致半導體出現操作故障。

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    研發實驗室和無塵室

    蒙特除濕解決方案確保實驗室和無塵室無論在何種環境條件下,都可保持穩定的相對濕度。

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    冷凝

    水蒸發后會變成水蒸汽。水蒸汽接觸到冰冷表面時發生冷凝,冷凝水就會附著在牆壁、天花板和產品上。

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    腐蝕

    腐蝕或金屬氧化主要是因為受到空氣中水分的影響。

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